揚(yáng)州九天環(huán)?？萍加邢薰?/span>

一、設(shè)備概述
等離子凈化器采用雙介質(zhì)阻擋放電(Dielectric Barrier Discharge），簡(jiǎn)稱DBD技術(shù)，產(chǎn)生低溫等離子體，利用所產(chǎn)生的高能電子、自由基等活性粒子激活、電離、裂解工業(yè)廢氣中的各組成份，使之發(fā)生分解，氧化等一些列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，再經(jīng)過多級(jí)凈化，從而消除各種污染源排放的異味、臭味污染物，使有毒有害氣體達(dá)到低毒化、無毒化，保護(hù)人類生存環(huán)境。
DBD等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)作為一種新的環(huán)境污染治理技術(shù)，由于其對(duì)污染物分子的高效分解且處理能耗低等特點(diǎn)，為工業(yè)廢氣的處理開辟了一條新的思路。
二、應(yīng)用范圍
低溫等離子凈化器產(chǎn)生的高能電子能量高，自由基密度大，因此絕大部分異味分子均能被分解，處理對(duì)象廣泛，可用于醫(yī)藥加工、瀝青煙氣、重油廢氣、橡膠塑料廢氣、油墨涂料廢氣、烘干廢氣、污泥干化廢氣、飼料和肥料加工廠、污水泵站、各類污水處理廠等諸多行業(yè)存在的有機(jī)廢氣、異味、惡臭等污染問題。
三、工作原理
等離子體去除污染物的基本過程：
過程一：高能電子的直接轟擊
過程二：O原子或臭氧的氧化
O2+e→2O
過程三：OH自由基的氧化
H2O+e→OH+H
H2O+O→2OH
H+O2→OH+O
過程四：分子碎片與OH自由基和O（活性氧）生成無機(jī)物H2O和CO2
其凈化作用機(jī)理是在產(chǎn)生等離子體的過程中，高頻放電所產(chǎn)生的瞬間高能足夠打開有害氣體分子的化學(xué)能，使之分解為單質(zhì)原子或無害分子；等離子體中包含大量的高能電子，正負(fù)離子，激發(fā)態(tài)粒子和具有強(qiáng)氧化性的自由基，它使活性粒子和部分臭氣分子碰撞結(jié)合，在電場(chǎng)作用下，使臭氣分子處于激發(fā)狀態(tài)。當(dāng)臭氣分子獲得的能量大于其分子鍵能的結(jié)合時(shí)，臭氣分子的化學(xué)鍵斷裂，直接分解成單質(zhì)原子構(gòu)成無害氣體分子。同時(shí)產(chǎn)生的大量OH，O等活性基和氣化性極強(qiáng)的O3，與有害氣體分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，最終生成無害產(chǎn)物。
四、設(shè)備特點(diǎn)
與目前國(guó)內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比較，DBD等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點(diǎn)：
1.技術(shù)高端，工藝簡(jiǎn)潔：開機(jī)后，即自行運(yùn)轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無需專人操作。
2.節(jié)能：無機(jī)械設(shè)備，空氣阻力小，耗電量約為0.003kw/m3廢氣。
3. 適應(yīng)工況范圍寬：設(shè)備啟動(dòng)、停止十分迅速，隨用隨開，不受氣溫的影響。在250℃以下和在霧態(tài)工況環(huán)境中均可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。在-50℃至+50℃的環(huán)境溫度仍可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。
4. 設(shè)備使用壽命長(zhǎng)：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧樹脂等材料組成，抗氧化，采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設(shè)備腐蝕問題。
5.結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單：只需用電，操作極為簡(jiǎn)單，無需派專職人員看守，基本不占用人工費(fèi)。無機(jī)械設(shè)備，故障率低，維修容易。
6.應(yīng)用范圍廣：介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以將所有的異味氣體分子降解。

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