深圳市中冀聯(lián)合通訊技術有限公司

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　　今天深圳市中冀聯(lián)合通訊技術有限公司帶著各位一起了解，有關于屏蔽設計的資訊，希望能幫到各位的忙!

　　進行屏蔽罩設計時，需要以下一些數(shù)據(jù)：首先，對其能夠衰減多少磁場強度必須測量或估算得出 其次，為了起到良好的屏蔽作用，必須挑選專門的形狀，典型的或相對可以預測的幾何形狀包括長的圓柱體和矩形殼體。當然還有許多其它形狀如圓錐體、平板或球體通常都會被采用。由于常用設計程序主要用于圓柱狀屏蔽罩的設計，但它被用于其它形狀如矩形的屏蔽罩設計時，要用其最長的對角線去替代方程中的直徑尺寸“D”。

　　屏蔽箱廠家表示，開始設計屏蔽罩時，必須確定磁通密度之值(單位，高斯)，也必須選擇屏蔽材料的厚度。因為屏蔽材料的μ與B的分布圖是非線性關系，工作在屏蔽罩的磁通密度必須使材料達到其峰值磁導率，例如坡莫合金和Mumetal的磁通量應在3600高斯左右。

　　屏蔽材料的厚度可以由下式計算確定t=1.25DH/B　(英寸)式中，B是衰減率(由屏蔽前的磁場強度除屏蔽后的磁場強度得到)。鎳含量高的磁性材料之μ值最小應該達到80，000。通過對工作在2500至3500高斯左右磁通水平的材料進行試驗，很容易得到這個數(shù)值。根據(jù)第一個方程式，B值可以計算出來 同時，如果必須使B值變得更合適，則可以修改屏蔽罩的直徑。