廣西南寧多貝實(shí)驗(yàn)室設(shè)備有限公司

    凈化工程潔凈空間的溫濕度主要是依據(jù)技術(shù)請(qǐng)求來(lái)斷定，但在滿(mǎn)意技術(shù)請(qǐng)求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度請(qǐng)求的進(jìn)步，出現(xiàn)了技術(shù)對(duì)溫濕度的請(qǐng)求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。詳細(xì)技術(shù)對(duì)溫度的請(qǐng)求今后還要羅列，但作為總的準(zhǔn)則看，因?yàn)榧庸ぞ仍絹?lái)越精密，所以對(duì)溫度動(dòng)搖規(guī)模的請(qǐng)求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路出產(chǎn)的光刻曝光技術(shù)中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱脹大系數(shù)的差請(qǐng)求越來(lái)越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就導(dǎo)致了0.24um線性脹大，所以必須有±0.1度的恒溫，一起請(qǐng)求濕度值通常較低，因?yàn)槿顺龊菇窈?，?duì)商品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間溫度不宜超越25度，濕度過(guò)高發(fā)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，假如發(fā)生在精密設(shè)備或電路中，就會(huì)導(dǎo)致各種事端。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片外表粘著的塵埃在外表難以清除。相對(duì)濕度越高，粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又因?yàn)殪o電力的效果使粒子也簡(jiǎn)單吸附于外表，一起大量半導(dǎo)體器材簡(jiǎn)單發(fā)生擊穿。關(guān)于硅片出產(chǎn)最好濕度規(guī)模為35—45%